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Canon 採用納米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）技術的半導體製造設備 FPA-1200NZ2C 最近終於首度出貨，賣家為美國半導體聯盟（Texas Institute for Electronics，TIE）。NIL 微影設備可生產 5 納米晶片，經過改良後將可生產 2 納米晶片，目標在三至五年內，每年賣出十多部。