Canon（佳能）去年 10 月開始販售採用納米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）技術的半導體製造設備 FPA-1200NZ2C，最近終於首度出貨，賣家為美國半導體聯盟（Texas Institute for Electronics，TIE）。Canon 指出，NIL 微影設備可生產 5 納米（nm）晶片，經過改良後將可生產 2 納米晶片，目標在三至五年內，每年賣出十多部。
由美國德州大學奧斯汀（University of Texas at Austin）分校支援於 2021 年成立的 TIE，由當地政府、半導體企業、國立研究所等等組成，該機構將使用 NIL 微影設備研發、試行製造先進的半導體。Canon 指出，採用 FPA-1200NZ2C 可以低成本製造高性能先進的 5 納米晶片，經改良更可進一步製造 2 納米產品。
FPA-1200NZ2C 採用的 NIL 技術，是 Canon 在 10 年前跟日本光罩廠大日本印刷（DNP）、東芝記億體（現為鎧俠（Kioxia））同共研發。該技術有如印章一樣，能直接將圖案壓印在晶片上，因此可一次過形成電路，縮短製程時間及更為省電，有別於傳統投影曝光的技術，需要藉由曝光將電路圖案燒在晶圓上。NIL 技術可處理的線條最幼為 14 nm ，相當於生產目前最先進的邏輯半導體所需的 5 nm 節點。
Canon 亦曾透露，FPA-1200NZ2C 設備的售價只是 ASML 產品的幾分之一，相信具市場競爭力。不過，2022 年 8 月起響應美國禁止向中國供應用於 14 納米或以下晶片製造的設備，有關設備將未能販售至中國。